本文介绍了氧化锆材料的一些特性，特别是低热导率的特点，以及一些操作技巧，有助于医生与技师在设计氧化锆修复体、制作饰面瓷时改进操作，最大程度避免崩瓷的发生。这也是之所以氧化锆修复体可以在欧美得到广泛认可以及普遍应用的原因。
过去数年间氧化锆全瓷修复体一直是医生与技师热议的焦点之一。这里所说的氧化锆全瓷修复体指以氧化锆瓷为基底材料，表面饰瓷的冠桥修复体。极少数牙医和技师对这种修复体表示担心，对绝大多数口腔从业者而言，氧化锆全瓷修复体非常成功，值得信赖。
在一次会议讨论中，有关氧化锆修复体，存在两种不同说法。
“氧化锆修复体很难取下，所以我担心崩瓷的发生。”
“我用氧化锆修复体很多年了，从来没有因为崩瓷的原因更换修复体。”
上述两种说法都有道理，都存在发生的可能性。崩瓷是发生于修复体的常见现象，烤瓷牙、氧化铝底冠、铸瓷等全瓷牙都会出现崩瓷，甚至牙釉质也有釉片崩落现象。而氧化锆有其特异性，熟识氧化锆的特性有助于预测氧化锆全瓷牙的寿命。本文旨在：
1.介绍氧化锆材料以及与贵金属、半贵金属的不同之处。
2.阐述氧化锆表面饰瓷耐久性的影响因素以及防治措施。
饰面瓷的冷热处理
氧化锆的热传导率是烧结饰面瓷时需要考虑的重要因素。热在低热导率的氧化锆中传递的时间较长，传递缓慢，饰瓷的烧结充分，达到理想的玻璃化状态。
氧化锆基底与表面饰面瓷之间缓慢的热释放在冷却过程中对饰瓷-氧化锆界面的影响同样值得关注。二者之间冷却速率差异显著，会对饰瓷内部张力状态有所影响。如果快速下降烧结炉基台高度，外层瓷快速冷却，而靠近氧化锆的内部饰瓷冷却相对缓慢。饰瓷内部不一致的冷却产生内部应力，可能导致崩瓷的发生。所以减慢冷却速度能够帮助材料内部获得更为优化的温度分布。总之，对氧化锆外部的玻璃饰瓷而言，加热和冷却过程需要比传统金属表面的瓷处理更加缓慢。
氧化锆与表面饰瓷的热膨胀系数
热膨胀系数的定义为单位温度变化导致的材料长度或体积的变化比率。氧化锆的热膨胀系数通常为10.2×10-6K-1—10.8×10-6K-1，化学组分不同，具体值有所差异。饰瓷热膨胀系数大致在7×10-6K-1—15×10-6K-1范围。
金瓷修复体中，一般期望饰瓷热膨胀系数低于金属基底，这样在冷却过程中，饰瓷受到压缩力（饰瓷更耐受压力而非张力）。
氧化锆底冠需要热膨胀系数与之接近的表面饰瓷。但是即便如此，如果冷却过程太快，饰瓷内部仍然可能产生温度级差，可能会在材料内部形成热应力，导致断裂或崩瓷的发生。“很多技师仍然怀有PFM情结，对于PFM修复体，技师有多种温度与加热速率模式选择获得理想的结果。然而，因为热导率的缘故，技师们不能将这个方法照搬在氧化锆处理上。我们必须遵守层叠烧结的基本原则，加热和冷却速率控制上不能走所谓的捷径。”（Robert Wisler, CDT, AlphaDental Studios）
小结：减缓冷却过程以控制材料内部温度的均匀分布。
简易实验
该实验旨在证明饰瓷处理对氧化锆基底的影响。等量未烧结纯饰瓷粉用于试验。如图一所示，左份材料无氧化锆基底，右份有烧结后的氧化锆基底。样本经同样冷热处理模式过程与结果见图2-5。如图6示，缓慢加热烧结及延长冷却后的瓷块。因为氧化锆基底能保持热量并传热，可见饰瓷-氧化锆界面呈理想的玻璃化状态。
氧化锆冠桥设计与饰瓷厚度
设计底层冠时，值得注意的重要一点是底层结构的功用在于为表面均匀厚度的饰瓷提供适当的支持。底层支持不足会导致饰面瓷的折裂，即使金瓷修复体也同样如此。
牙医必须确保他们的合作技师认真细致的合理设计氧化锆和金瓷基底。基底需要具备牙冠基本解剖外形。—Dr.Gordon J. Christensen
3M Lava 5.0设计软件工具可以使技师更便捷的完成底冠设计。
Dr. Gordon J. Christensen, D.D.S., M.S. D, PhD., ScD., D.Ed&Res.
左图截面观显示氧化锆底层冠未能对饰面瓷提供足够支持。右图合理设计，显示底冠具牙尖外形设计，为表面饰瓷提供了足够的支持。
此外，氧化锆底冠的设计如果无法保证均匀厚度的饰面瓷，会导致饰面瓷的玻璃态化较差。不均匀的饰面瓷设计会导致升温速率不同，较厚的瓷不易被处理完全。升温过快的话，该效应愈加显著。再次说明控制整体升降温过程的重要性。
抵御口腔环境中应力的冲击，饰面瓷获得足够的支持对修复体的寿命影响至关重要。如果我们站在一块放在地毯上的1/4英寸的玻璃上，毫无疑问，玻璃马上就会破碎。但是如果把玻璃放在桌子上，站上去就不会破。修复体也是同样的道理。瓷层需要有金属、氧化铝、氧化锆，或者牙体组织的支撑。据报道，金属和氧化锆底冠设计良好时，成功率非常高。—Dennis Ouye, CDT
小结：无论金瓷还是氧化锆全瓷修复体，底冠或基底结构的设计能够有效支持表面饰瓷，使饰面瓷呈均匀厚度是成功的关键。Lava专业配套的先进烧结炉由计算机精确控制烧结模式，使烧结过程精密化、自动化；远程升级与校正提高工作效率，保证系统的稳定。
烧结炉的校正与热加载
氧化锆底冠热导率远低于金属基底，因此保证烧结炉定期的校正非常重要。即使同样型号，同样品牌的烧结炉，烧结周期亦有所不同。技师可以定期烧结一些纯的饰瓷材料，观察烧结后的玻璃态，以此进行烧结冷热过程控制的调节。多单位氧化锆修复体的饰面瓷进行烧结时，总体的热力控制非常重要。正如烤3，4个土豆会比烤1个花更长的时间，多单位修复体的烧结会比单单位花更长的时间。
小结：对氧化锆修复体的制作而言，烧结炉的校正更为重要。因为热力加载会影响加热和冷却的速率，所以需要认真考虑。
表面预备和喷砂
大多计算机辅助设计的氧化锆基底精确度非常高，不需要多余的表面预备和喷砂。与金属底冠的上瓷程序不同，氧化锆底冠不需要表面清理或借助于打磨工具进行表面预备。Lava氧化锆的外表面不需进行喷砂处理，因为切削过程已经使表面足够粗糙，便于上瓷。不过轻微的喷砂处理也不会影响强度，也能一定程度上增加饰面瓷的润湿性。
氧化锆完成切割后一般不可避免的需要借助打磨工具切割固位铸道，但必须尽量轻微和少量使用器械。经过少量修整，最好在限定区域以小于50微米的砂粒谨慎喷砂处理，最大气压控制在1.5-2bar之间。
小结：除了切割固位铸道的区域可以进行轻微喷砂处理，氧化锆冠外表面的其它区域无须喷砂处理。
湿烧结
湿烧结也就是涂覆浆样或粘接层，在用Lava Ceram对Lava氧化锆上瓷时是不必要的。如果使用的是其他饰面瓷，技师可以在底冠表面涂覆一薄层结合瓷来增强表面饰瓷与氧化锆基底之间的结合。该层烧结时，技师通常使用比一般瓷高15-20℃的烧结温度。有些人建议高50-80℃。
小结：使用Lava Ceram饰面瓷时，结合瓷无须使用。
Dr. Ed McLaren有关氧化锆基底上饰面瓷的一些建议：
此处列举了Dr. Ed McLaren的一些建议与经验分享，希望对读者更好地理解氧化锆基底的饰面瓷制作的影响因素。Dr. Ed McLaren是加州大学洛杉矶分校美学齿科中心主任。
1.确保合理设计底冠结构，为饰面瓷提供有效支持；
2.将切好的试件从氧化锆块中移除时，小心处理固位铸道点；
3.完成烧结后如需打磨，充分喷水冷却下使用精细金刚砂针(如. Brasseler #8881)打磨。在打磨区域局部轻微喷砂处理，砂粒50微米，压力25psi；
4.使用薄层结合瓷，高于厂商建议烧结温度50℃以上进行烧结；
5.上瓷；
6.以每分钟30℃缓慢升温。定期校正烧结炉；
7.持温1分钟；
8.最后一轮烧结（上釉），以每分钟下降60℃缓慢降温.，约6分钟；
9.静置炉中直至温度降到100℃以下，约需10分钟。所以整个上釉环节的冷却约15分钟；
Dr. Ed McLaren总结的操作模式取得了非常令人满意的结果，上图数据来源于Dr. Ed McLaren的实验发现。加州大学洛杉矶分校牙学院材料研究中心的Shane White医生正致力于开发进一步的实验评估和证实这一模式的效果。
前期试验结果表明，操作方式的改进能将氧化锆基的全瓷修复体发生瓷裂和崩瓷的几率降到最低。二位学者正用不同氧化锆基底与饰瓷进行进一步的实验。
